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NF-300H TEOS
PECVD设备

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NF-300H TEOS 设备为自主研发的产品，主要应用于沉积时间需求长的薄膜工艺，在均匀性、颗粒度、粗糙度、应力及产能等方面实现技术突破，设备性能指标达同类产品水平。

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